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当前所在位置：首页> 产品展示 > 刻蚀设备
基本原理是先在半导体材料表面加工成型特定图案的掩模，然后用RIE/ICP设备控制刻蚀气体刻蚀掉没有掩模的地方，最终留下特定的图案
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